Свойства и особенности кристаллизации эпитаксиальных слоев GaAs, выращенных на подложках Si(100) методом двухстадийного осаждения в МОС гидридном процессе

D. A. Vinokurov, V. M. Lantratov, M. A. Sinicin, V. P. Ulin, N. N. Faleev, O. M. Fedorova, Ya. L. Shaiovich, B. S. Yavich