M. Yu. Zakharina, K. V. Arsenyeva, M. A. Baten’kin, A. N. Konev, R. S. Kovylin, A. A. Lokteva, A. E. Pestov, A. N. Nechai, A. Ya. Lopatin, A. A. Perekalov, S. A. Chesnokov, A. V. Piskunov, I. L. Fedushkin, “Формирование перспективных для электронно-лучевой и экстремально-ультрафиолетовой нанолитографии тонкопленочных резистивных материалов на основе оловоорганических оксокластеров”, Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 2026, Volume 96, Issue 2,Pages <nobr>383

Physical electronics

Формирование перспективных для электронно-лучевой и экстремально-ультрафиолетовой нанолитографии тонкопленочных резистивных материалов на основе оловоорганических оксокластеров

M. Yu. Zakharina^a, K. V. Arsenyeva^a, M. A. Baten’kin^a, A. N. Konev^a, R. S. Kovylin^a, A. A. Lokteva^a, A. E. Pestov^b, A. N. Nechai^b, A. Ya. Lopatin^b, A. A. Perekalov^b, S. A. Chesnokov^a, A. V. Piskunov^a, I. L. Fedushkin^a

^a G. A. Razuvaev Institute of Organometallic Chemistry, Russian Academy of Sciences, Nizhnii Novgorod
^b Institute for Physics of Microstructures, Russian Academy of Sciences, Nizhnii Novgorod

Received: 25.04.2025
Revised: 14.10.2025
Accepted: 15.10.2025

DOI: 10.61011/JTF.2026.02.62298.85-25